VCR316L 真空 3 纳米过滤器丨半导体制造超纯气体扩散器

在半导体制造的真空腔体工艺中，气体的纯净度与气流的稳定性直接决定了晶圆的生产质量。深圳恒歌研发的 VCR316L 真空 3 纳米过滤器，专为半导体制程中真空腔体快速放气应用量身打造，凭借顶尖的过滤技术与稳定的结构设计，成为守护真空腔体环境的核心屏障。​

该过滤器的过滤精度高达 0.003um(即 3 纳米)，采用不锈钢粉末烧结介质，能高效拦截气体中微小颗粒，防止微粒混入真空腔体。在晶圆光刻、薄膜沉积等关键工艺中，哪怕极细微的杂质都可能导致芯片缺陷，而 VCR316L 真空 3 纳米过滤器可确保进入腔体的气体达到超纯标准，有效帮助企业提高产品合格率。​

产品采用整体 316L 不锈钢结构，不仅具备出色的耐高温、耐高压、耐腐蚀性能，还能巧妙规避排气时的湍流产生。湍流会破坏真空腔体的稳定环境，可能吹起腔体内残留颗粒或影响硅片位置，进而干扰工艺精度。恒歌通过优化结构设计，让气体在排气过程中保持平稳流动，从根源上减少湍流对工艺室环境的影响。​

同时，这款过滤器在洁净室环境内完成制造、测试与包装，每一台产品都经过 100% 完整性测试和 100% 氨气泄露检测，确保出厂产品的可靠性与安全性。针对不同工厂的安装空间差异，恒歌还提供定制化设计服务，让过滤器能灵活适配各类设备布局。​

产品特点：​半导体制造超纯气体扩散器

1、3 纳米高精度过滤：拦截微小颗粒，保障气体超纯。​

2、VCR316L 不锈钢结构：耐极端环境，延长使用寿命。​

3、抑制湍流产生：维持气流平稳，保护工艺环境。​

4、双重严格检测：100% 完整性与氨气泄露检测，质量可控。​

5、洁净室全流程生产：避免二次污染，确保产品洁净。​

VCR316L 真空 3 纳米过滤器，以卓越的性能满足半导体真空腔体快速放气需求，为半导体制造企业的高效、高质量生产提供坚实保障。