半导体集成电路过滤器丨刻蚀设备气体过滤器

半导体集成电路(IC)制造是高科技产业的核心，涉及光刻、刻蚀、沉积等多道工艺，均在高度洁净的环境中进行。设备如光刻机和刻蚀机依赖超纯气体(如氮气、氩气)用于冷却、吹扫或反应气体供应，以确保电路图案的精确性和可靠性。任何气体中的微粒污染都可能导致电路短路、缺陷或良率下降，因此气体纯度至关重要。半导体集成电路设备通常集成在阀歧管箱或气柜中，要求气体输送系统紧凑、高效。

为什么使用过滤器

在半导体集成电路制造中，气体管路输送的气体即使经过初步净化，仍可能携带亚微米级颗粒、水分或油雾。这些污染物会沉积在晶圆表面，引起器件故障。例如，在光刻环节，气体中的微粒可能遮挡紫外光，导致图案失真;在刻蚀过程中，污染物可能干扰化学反应，造成过刻蚀或欠刻蚀。使用过滤器能有效拦截0.003μm以上的颗粒，将气体杂质含量降至5ppb以下，保障集成电路的微型化和高集成度需求。文档指出，过滤器是超高纯气体系统的首选，可避免供应链困扰和技术难题。

过滤器介绍

恒歌HENGKO的SF系列IGS面板专用过滤器专为半导体集成电路设备设计，兼容C型和W型密封规格，实现0.003μm级高效颗粒过滤。该过滤器采用全316L不锈钢结构，支持高达100slpm的大流量，适用于集成气体输送与控制系统。其设计符合SEMI标准，便于模块化安装，如用于阀歧管箱或气柜的在线过滤。SF系列在洁净室环境内制造、测试和包装，确保9-LRV清洁度，助力客户提高产品竞争力。

过滤器特点

● 结构材料：整体316L不锈钢电解抛光外壳，耐高温、耐高压、耐腐蚀，工作温度范围-28°C至+482°C，工作压力可达414bar。

● 过滤性能：超高颗粒拦截效率，出口气体各杂质含量小于5ppb，通过100%完整性测试和氦气检漏测试。

● 设计优势：小型化紧凑结构，节省空间;采用机械密封，与介质无焊接，安装检修便捷;优异的气体置换和解吸特性，减少压损。

● 定制服务：可提供OEM定制，按需求设计过滤精度和尺寸，如适配不同气流速率。

● 技术参数显示，其流量压差曲线平滑，确保稳定运行。外形尺寸多样，支持灵活集成。

产品应用

SF系列广泛应用于半导体集成电路制造环节，如光刻设备的气体吹扫系统、刻蚀设备的反应气体供应线，以及晶圆厂的气体分配歧管。在LED、光伏和MEMS设备中，它用于保护敏感组件，延长设备寿命。案例包括集成电路生产线的高纯氮气过滤，有效预防微粒污染，提高良率至99.99%以上。文档指出，该过滤器是半导体行业实现超高纯气体的关键，助力科技未来发展。