硅晶圆工艺特气管道系统过滤器丨硅烷特气管道系统过滤器

硅晶圆工艺特气管道系统是半导体制造的 “气体输送动脉”，负责将光刻、蚀刻、沉积等关键制程所需的特种气体(如 Cl2、NH3、SiH4 等)精准输送至反应腔室，直接决定晶圆图案精度与成品良率，对气体纯度要求达 ppb 级以下。​

1、为什么需要使用过滤器?​

硅晶圆制程中，哪怕 0.1μm 的微粒、微量油雾或碳氢化合物，都可能导致晶圆缺陷、光刻胶失效或设备腔室污染，造成巨额生产成本损失。特气管道在安装、输送过程中易残留尘埃、铁锈，且特气本身可能携带杂质，必须通过专业过滤器实现深度净化。​

2、过滤器介绍​

恒歌 HF 系列高压气体专用过滤器，专为硅晶圆工艺特气管道系统量身打造，采用 316L 不锈钢一体结构，50Mpa 设计压力适配特气高压输送场景，兼具高强度与轻量化优势。可高效滤除气体中 0.003μm 以上的微粒、油雾及碳氢化合物，滤芯经 100% 完整性测试与氨气泄露检测，确保特气纯度符合半导体制造标准。​

3、过滤器特点​

▶ 整体 316L 不锈钢材质，耐腐蚀性强，适配各类腐蚀性特气​

▶ 轻量化、小型化设计，螺纹连接节省安装空间，兼容 C/W 型密封规格​

▶ 耐高温(600℃)、耐高压(50Mpa)，适配极端制程环境​

▶ 过滤效率达 99.999%，不易堵塞，保障气体输送稳定性​

▶ 滤芯可快速更换，安装检修无需复杂工具​

▶ 100% 完整性测试 + 氨气泄露检测，零泄漏风险​

4、产品应用​

半导体硅晶圆制造(28nm 及以下先进制程)、LED 芯片制造、半导体封装测试等领域的特气管道系统净化。​

5、常见问答​

Q：过滤精度能否满足硅晶圆先进制程要求?​

A：支持 0.003μm~120μm 多规格滤芯，可实现 ppb 级杂质去除，完全适配 7nm/5nm 制程特气净化需求。​

Q：能否兼容含氟、含氯等腐蚀性特气?​

A：316L 不锈钢结构 + 专用密封材质，可安全适配 HF、Cl2 等强腐蚀性特气，无材质反应风险。​

Q：维护周期多久?更换滤芯是否影响生产?​

A：常规使用下滤芯寿命 6~12 个月，快拆式设计可在 30 分钟内完成更换，建议配备备用滤芯实现无缝切换。​

Q：过滤器会产生气体压降吗?​

A：优化流道设计，压降≤0.05Mpa，不影响特气输送流速与系统压力稳定性。​

6、选型指引​

若您不确定滤芯精度、接口规格或特气适配性，欢迎联系我们，提供制程参数即可获得定制化选型方案!